
Tech−On!Ranking[LSI]〜EB直描のLSI試作サービス 65nm向けを2007年に開始
日経マイクロデバイス 第257号 2006.11.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第257号(2006.11.1) |
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ページ数 | 1ページ (全260字) |
形式 | PDFファイル形式 (255kb) |
雑誌掲載位置 | 105ページ目 |
富士通とアドバンテストは,電子ビーム(EB)直接描画技術によるLSIの試作サービス事業に乗り出す。65nm世代向けを2007年度に開始し,将来的に45nm向けにも対応する。両社は2006年11月をメドに富士通の事業所内に合弁会社を設立し,EB直描に対応するプロセス技術の開発に着手する。富士通のプロセス技術とアドバンテストのEB露光装置技術を持ち寄る。これに向けて,アドバンテストは65〜45nm世…
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