Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＥＢ直描のＬＳＩ試作サービス ６５ｎｍ向けを２００７年に開始
日経マイクロデバイス 第257号 2006.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第257号（2006.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全260字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （255kb） |
| 雑誌掲載位置 | 105ページ目 |
富士通とアドバンテストは，電子ビーム（ＥＢ）直接描画技術によるＬＳＩの試作サービス事業に乗り出す。６５ｎｍ世代向けを２００７年度に開始し，将来的に４５ｎｍ向けにも対応する。両社は２００６年１１月をメドに富士通の事業所内に合弁会社を設立し，ＥＢ直描に対応するプロセス技術の開発に着手する。富士通のプロセス技術とアドバンテストのＥＢ露光装置技術を持ち寄る。これに向けて，アドバンテストは６５〜４５ｎｍ世…
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